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Region of a patterned wafer inspected using optical microscopy and automated and reproducible DIC (differential interference contrast). With DIC users are able to visualize small height differences on the wafer surface more easily.

6-Inch Wafer Inspection Microscope for Reliably Observing Small Height Differences

A 6-inch wafer inspection microscope with automated and reproducible DIC (differential interference contrast) imaging, no matter the skill level of users, is described in this article. Manufacturing…
Optical microscope image, which is a composition of both brightfield and fluorescence illumination, showing organic contamination on a wafer surface. The inset images in the upper left corner show the brightfield image (above) and fluorescence image (below with dark background).

Visualizing Photoresist Residue and Organic Contamination on Wafers

As the scale of integrated circuits (ICs) on semiconductors passes below 10 nm, efficient detection of organic contamination, like photoresist residue, and defects during wafer inspection is becoming…
Eine Batterieelektrode, deren Ränder Grate aufweisen (mit roten Pfeilen markiert). Das Bild wurde mit einem Digitalmikroskop DVM6 aufgenommen.

Graterkennung während der Batterieherstellung

Erfahren Sie, wie die optische Mikroskopie zur Graterkennung an Batterieelektroden und zur Bestimmung des Schadenspotenzials eingesetzt werden kann, um eine schnelle und zuverlässige…
Partikel auf der Oberfläche einer Partikelfalle, die für die technische Sauberkeit bei der Batterieproduktion eingesetzt werden kann.

Erkennung von Batteriepartikeln während des Produktionsprozesses

In diesem Artikel wird erläutert, wie die Partikelerkennung und -analyse von Batterien mit optischer Mikroskopie und Laserspektroskopie für eine schnelle, zuverlässige und kostengünstige…
Particulate contamination in between moving metal plates.

Key Factors for Efficient Cleanliness Analysis

An overview of the key factors necessary for technical cleanliness and efficient cleanliness analysis concerning automotive and electronics manufacturing and production is provided in this article.
Images of the same area of a processed wafer taken with standard (left) and oblique (right) brightfield illumination using a Leica compound microscope. The defect on the wafer surface is clearly more visible with oblique illumination.

Rapid Semiconductor Inspection with Microscope Contrast Methods

Semiconductor inspection during the production of patterned wafers and ICs (integrated circuits) is important for identifying and minimizing defects. To increase the efficiency of quality control in…
Preparation of an IC-chip cross section: grinding and polishing of the chip cross section.

Cross-section Analysis for Electronics Manufacturing

This article describes cross-section analysis for electronics concerning quality control and failure analysis of printed circuit boards (PCBs) and assemblies (PCBAs), integrated circuits (ICs), etc.
Image of an integrated-circuit (IC) chip cross section acquired at higher magnification showing a region of interest.

Structural and Chemical Analysis of IC-Chip Cross Sections

This article shows how electronic IC-chip cross sections can be efficiently and reliably prepared and then analyzed, both visually and chemically at the microscale, with the EM TXP and DM6 M LIBS…
Stereomikroskope werden oft als die Arbeitstiere von Labors und Produktionsstätten angesehen.

Wichtige Faktoren, die Sie bei der Auswahl eines Stereomikroskops berücksichtigen sollten

Stereomikroskope zeichnen sich durch ihre Fähigkeit aus, einen 3D-Eindruck der Probe zu erzeugen. Daher eignen sie sich besonders gut für Inspektion und Nacharbeit, Qualitätskontrolle, Forschung und…
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