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Sistema de recubrimiento de alto vacío para una amplia gama de aplicaciones

Equipado con una cámara de proceso metálica configurable, el recubrimiento por sputtering EM ACE600 es flexible y se puede adaptar a una amplia gama de aplicaciones. Alcance sus objetivos de flujo de trabajo y satisfaga las necesidades de su laboratorio ejecutando hasta dos fuentes diferentes en un único proceso de preparación o incluso configurando el EM ACE600 para flujos de trabajo criogénicos avanzados.

El EM ACE600 hace que la preparación rutinaria de muestras sea sencilla y fiable, y ahorra un tiempo valioso gracias a la comodidad de la carga con la puerta frontal, los procesos de recubrimiento automatizados y basados en protocolos, que se pueden iniciar con solo pulsar un botón.

Si necesita...

  • Realice imágenes de alta resolución de muestras planas o estructuradas no conductoras
  • Mejorar el contraste de estructuras a escala nanométrica, como proteínas o cadenas de ADN
  • Produzca capas de soporte delgadas pero fuertes para rejillas TEM o
  • Proporcione capas de protección para muestras sensibles
  • Ampliar el sistema para aplicaciones criogénicas

... con el recubridor EM ACE600 de carbono y sputtering lo tendrá todo cubierto.

Recubridor EM ACE600 de carbono, haz de electrones y de sputtering con base de transferencia criogénica
Recubridor EM ACE600 de carbono, haz de electrones y de sputtering con base de transferencia criogénica

Recubrimiento por sputtering

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Láminas finas de alta calidad reproducibles con recubrimiento por sputtering

Con el sistema de revestimiento de alto vacío EM ACE600 se producen láminas finas de alta calidad y recubiertas por sputtering en cada procesado. Cumpla las condiciones adecuadas para sus necesidades de recubrimiento avanzadas y consiga resultados reproducibles gracias al proceso de recubrimiento por sputtering automatizado y basado en protocolos.

Realice análisis SEM de alta resolución de hasta 200k X y más, con un excelente vacío base de <2x10-6  mbar y parámetros de proceso equilibrados para una amplia gama de objetivos de sputtering. Ajuste la distancia de la muestra y el ángulo de recubrimiento a las necesidades de la morfología de la muestra.

Para mejorar aún más sus resultados de recubrimiento, puede utilizar una trampa fría de Meissner para aumentar el vacío a un régimen de 10-7  mbar y, a continuación, probar obleas de sputtering o materiales de muestra sensibles al oxígeno.

Recubrimientos de sputtering de grano fino de 2 nm de grosor de diferentes materiales depositados en el subestado SiOx, aumento de 200k X.
Recubrimientos de sputtering de grano fino de 2 nm de grosor de diferentes materiales depositados en el subestado SiOx, aumento de 200k X.

Recubrimiento por carbono

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Películas finas reproducibles y de alta calidad con recubrimiento de carbono

Con el EM ACE600 puede producir capas de carbono de alta calidad mediante el uso de evaporación de hilo de carbono, evaporación de barras de carbono o evaporación por haz de electrones.

La evaporación de la hilo de carbono se ha convertido en un método ampliamente utilizado desde

Leica Microsystems desarrolló el exclusivo enfoque de micropulsos adaptativo implementado en el EM ACE600. Puede producir capas precisas, robustas y amorfas con un grosor inferior al nanómetro, a la vez que minimiza el impacto del calor en la muestra. Ya sea que necesite capas de soporte de TEM delgadas, fuertes y limpias, recubrimientos (de protección) difusos o grandes capas de carbono homogéneo, el hilo de carbono es la elección correcta.

Para aplicaciones específicas, como el sombreado rotatorio, puede utilizar el evaporador de haz de electrones. Su pequeña divergencia de haz es ideal para el recubrimiento de sombras para mejorar el contraste de bordes de estructuras a escala nanométrica.

Deposición precisa de carbono de capas de entre 1 y 5  nm de grosor
Deposición precisa de carbono de capas de entre 1 y 5  nm de grosor

Películas de carbono ultrafinas

El recubrimiento de carbono tiene múltiples aplicaciones para la microscopía electrónica. Debe ser conductor, pero invisible para el haz de electrones y no debe tener estructura granular.

Las películas finas producidas por el hilo de carbono por micro-pulsos adaptativos tienen un grosor preciso, son fuertes, conductoras e incluso se pueden endurecer para reducir aún más la contaminación. En última instancia, estas películas proporcionan:

  • Alta transparencia a los electrones
  • Resistencia adecuada para soportar el bombardeo de electrones
  • Grosor uniforme, crucial para investigaciones analíticas, imágenes cuantitativas o tomografía electrónica
A: capa de carbono convencional (15 nm de carbono); B: capa de carbono ultrafina (3 nm). Observación sencilla del retículo de las placas cuánticas CdSe. Imágenes adquiridas por Eva Bladt y Sara Bals (EMAT, Universidad de Amberes), Bélgica. Cortesía de: Frederic Leroux y Jan de Weert. Muestra por cortesía de: Daniel Vanmaekelbergh, Instituto Debye de Ciencias de Nanomateriales, Universidad de Utrecht
A: capa de carbono convencional (15 nm de carbono); B: capa de carbono ultrafina (3 nm). Observación sencilla del retículo de las placas cuánticas CdSe. Imágenes adquiridas por Eva Bladt y Sara Bals (EMAT, Universidad de Amberes), Bélgica. Cortesía de: Frederic Leroux y Jan de Weert. Muestra por cortesía de: Daniel Vanmaekelbergh, Instituto Debye de Ciencias de Nanomateriales, Universidad de Utrecht

Adapte el EM ACE600 a sus necesidades

Ejecute más de un proceso en un solo instrumento de recubrimiento sin romper el vacío, gracias a la gran cámara de proceso metálica configurable del EM ACE600. Al mismo tiempo, combine un cabezal de sputtering con un avanzado evaporador de hilo de carbono o elija dos fuentes de sputtering que permitan el uso de recubrimientos metálicos multicapa en un único proceso de preparación.

  • Produzca películas finas distribuidas uniformemente en todo el portamuestras de 100mm gracias al concepto optimizado de dos fuentes con dos puertos en ángulo y un portamuestras rotatorio
  • Elija entre fuentes recubridoras robustas de hilo de carbono, haz de electrones y sputtering
  • Equipe su EM ACE600 con sputter de glow discharge
  • Actualizable en cualquier momento in situ
Puertos configurables ACE600 para dos fuentes. Puede elegir entre: 1-Evaporación de hilo de carbono |2-sputtering |3-evaporación por barra de carbono |4-evaporación por haces de electrones
Puertos configurables ACE600 para dos fuentes. Puede elegir entre: 1-Evaporación de hilo de carbono |2-sputtering |3-evaporación por barra de carbono |4-evaporación por haces de electrones

Manténgase centrado en las partes críticas de su proceso de preparación

Confíe en que la preparación de muestras rutinaria se realiza con solo pulsar un botón gracias al recubridor de carbono y sputtering EM ACE600. Los flujos de trabajo sencillos y fiables, así como los prácticos procedimientos normalizados de trabajo, le permiten centrarse en las partes más importantes de la preparación de muestras de EM. Puede concentrarse en optimizar su flujo de trabajo y dedicar menos tiempo a aprender a utilizar el sistema o a formar a otros sobre su uso.

  • Carga y descarga segura de muestras sensibles a través de la puerta frontal
  • Una interfaz de usuario basada en el flujo de trabajo y un acceso rápido a los parámetros relevantes guían el camino
  • Fuentes ligeras y robustas para un cómodo manejo diario
Funcionamiento de la pantalla táctil del EM ACE600 con una interfaz de usuario basada en el flujo de trabajo
Funcionamiento de la pantalla táctil del EM ACE600 con una interfaz de usuario basada en el flujo de trabajo
Leica EM VCT500 & Leica EM ACE600

Ampliar a los flujos de trabajo criogénicos

Abra su laboratorio a una amplia gama de experimentos de microscopía electrónica recubriendo sus muestras en condiciones criogénicas. El recubridor de carbono y sputtering EM ACE600 ayuda a preparar las muestras para la investigación, como el análisis estructural de muestras biológicas en su estado nativo e hidratado, realizando una fractura por congelación y un criorecubrimiento, seguido de una transferencia de muestras criogénicas al SEM con la ayuda del sistema de transferencia EM VCT500.

El EM ACE600 ofrece:

  • Una interfaz para la transferencia de muestras criogénicas
  • Una etapa criogénica para revestimiento en condiciones criogénicas
  • Un dispositivo básico para fracturas

Elija la configuración óptima

Satisfaga las necesidades de su trabajo diario en el laboratorio configurando su recubridor de carbono y sputtering EM ACE600.

Elija entre una amplia selección de portamuestras, como el de 3 ejes motorizados o portamuestras criogénico. Las mesas del portamuestras son fácilmente intercambiables y convierten a su EM ACE600 en una herramienta multiusos.

1: portamuestras de 3 ejes motorizados |2: portamuestras de sombreado giratorio (LARS-) |3: portamuestras rotatorio «semi-manual» |4: portamuestras criogénico
1: portamuestras de 3 ejes motorizados |2: portamuestras de sombreado giratorio (LARS-) |3: portamuestras rotatorio «semi-manual» |4: portamuestras criogénico

Sombreado giratorio: haga visibles las estructuras a nanoescala

Configure su EM ACE600 con una configuración específica de sombreado giratorio en ángulo bajo (LARS) para poder obtener imágenes de estructuras con escala nanométrica, como proteínas o cadenas de ADN, en el TEM. La fuente de haz de electrones del EM ACE600, junto con un portamuestras LARS motorizado, combina la deposición directa de película fina con bajo impacto térmico con una geometría optimizada del escenario para la deposición por incidencia al ras. Una vez que las moléculas de ADN se recubren en sombra en un ángulo pequeño con una capa de platino de grano fino, se añade una capa de carbono para estabilizar las estructuras frágiles para su análisis en el TEM.

Imagen TEM de una doble cadena de replicación de ADN de la levadura en desarrollo S.cerevisiae obtenida mediante sombreado giratorio en ángulo bajo con el recubridor por haz de electrones EM ACE600
Imagen TEM de una doble cadena de replicación de ADN de la levadura en desarrollo S.cerevisiae obtenida mediante sombreado giratorio en ángulo bajo con el recubridor por haz de electrones EM ACE600

Elija el flujo de trabajo adecuado para su experimento

Pestaña de Inicio de flujos de trabajo

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El EM ACE600 le ayuda a obtener resultados de alta calidad al realizar experimentos biológicos y de ciencia de materiales.

Los flujos de trabajo van desde la preparación de muestras estándar TEM y SEM hasta los flujos de trabajo 3D de tomografía de secciones, FIB SEM y mucho más. Para obtener más información sobre soluciones de flujo de trabajo para

  • investigación en ciencias de la vida, descargar folleto de flujo de trabajo
  • investigación en ciencia de materiales, descargar folleto de flujo de trabajo

1 Flujo de trabajo estándar con SEM

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Flujo de trabajo estándar con SEM

Investigue la topología superficial de muestras con fijación química con el flujo de trabajo estándar para SEM. Prepare sus muestras con el procesador de tejidos EM TP y deshidrátelas luego en punto crítico con el EM CPD300. El siguiente paso es recubrir las muestras con el EM ACE200 o el EM ACE600, seguido de la obtención de imágenes en el SEM.

(1) Procesamiento automatizado de tejidos (EM TP) |(2) Secado automatizado por punto crítico (EM CPD300) |(3) Recubrimiento por carbono y/o sputtering (EM ACE200 / EM ACE600) |(4) Análisis de imágenes en SEM
(1) Procesamiento automatizado de tejidos (EM TP) |(2) Secado automatizado por punto crítico (EM CPD300) |(3) Recubrimiento por carbono y/o sputtering (EM ACE200 / EM ACE600) |(4) Análisis de imágenes en SEM

2 Preparación de estado sólido SEM/LM

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Preparación de estado sólido SEM / LM - Corte transversal por haz de iones

Esta técnica se utiliza más comúnmente para muestras SEM en estado sólido, pero también se puede aplicar para investigaciones de microscopía óptica. Cuando la muestra tiene un objetivo determinado que deber ser expuesto para su observación, la muestra debe estar bien cortada para obtener la estructura interna de la parte de interés. Después, para las muestras no conductoras, es necesario aplicar un recubrimiento para que la muestra sea adecuada para la observación SEM.

(1)- (3) Corte transversal, preparación de áreas de interés , rectificado (EM TXP) |(4) y (5) Fresado por haz de iones y pulido iónico de gama alta (EM TIX 3X o EM RES102) |(6) Recubrimiento (EM ACE200 / EM ACE600) |(7) Análisis SEM
(1)- (3) Corte transversal, preparación de áreas de interés , rectificado (EM TXP) |(4) y (5) Fresado por haz de iones y pulido iónico de gama alta (EM TIX 3X o EM RES102) |(6) Recubrimiento (EM ACE200 / EM ACE600) |(7) Análisis SEM

3 Preparación y transferencia de muestras Cryo-SEM

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Preparación y transferencia de muestras Cryo-SEM: seccionamiento transversal por bombardeo iónico

Este flujo de trabajo de transferencia criogénica se utiliza para muestras congeladas por alta presión, incluidos materiales duros y quebradizos (por ejemplo, arcilla con cuarzo). La muestra debe mantenerse a una temperatura de -150 °C durante todo el proceso de preparación, desde la congelación por alta presión hasta la preparación previa mecánica con la sierra criogénica, seguida de un paso de fresado con haz de iones y, finalmente, su transferencia al Cryo-SEM.

(1) Congelación por alta presión (EM ICE) |(2)- (3) Corte y seccionamiento transversal (EM VCM) |(4) Transferencia (EM VCT500) |(5) Fresado por haz de iones (EM TIC 3X) |(6) Transferencia (EM VCT500) |(7) Recubrimiento (EM ACE600) |(8) Análisis Cryo-SEM
(1) Congelación por alta presión (EM ICE) |(2)- (3) Corte y seccionamiento transversal (EM VCM) |(4) Transferencia (EM VCT500) |(5) Fresado por haz de iones (EM TIC 3X) |(6) Transferencia (EM VCT500) |(7) Recubrimiento (EM ACE600) |(8) Análisis Cryo-SEM

4 Preparación de estado sólido SEM/LM

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Preparación de estado sólido SEM/LM: pulido iónico

Esta técnica se utiliza para muestras SEM o microscopía óptica de estado sólido . Cuando es necesario investigar un área grande (varios cm2) de la muestra con el más alto nivel de calidad (por ejemplo, EBSD), la muestra se prepara mecánicamente (acabado similar a un espejo) y, finalmente, se prepara con el método de pulido iónico.

5 Flujo de trabajo para tomografías 3D de secciones

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Flujo de trabajo para tomografías 3D de secciones

Con este flujo de trabajo puede estudiar la organización y la interacción de estructuras biológicas dentro de un volumen 3D definido. El primer paso es procesar las muestras a temperatura ambiente, seguido de cortes en serie semifinos sobre rejillas TEM. Después del paso de tinción, continúe con la obtención de imágenes TEM.

(1) Procesamiento automatizado de tejidos (EM TP) |(2) Tallado (EM TRIM2) |(3) Cortes en serie (EM UC7) |(4) Tinción (EM AC20) |(5) Análisis de imágenes en el TEM
(1) Procesamiento automatizado de tejidos (EM TP) |(2) Tallado (EM TRIM2) |(3) Cortes en serie (EM UC7) |(4) Tinción (EM AC20) |(5) Análisis de imágenes en el TEM
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