お問合せはこちら
EMサンプル調製の効率化は弊社専任チームにご相談ください。
イオンビームミリングによる解像度の向上
イオンビームミリングは、イオンビームエッチングとも呼ばれ、高解像度のイメージングや分析のために、十分に前処理された試料表面品質を達成するために使用されます。 機械的な切断や研磨による残留アーテファクトを除去することができます。 イオンビームエッチングで作製したイオン研磨断面や平面試料は、電子顕微鏡によるイメージングや、EDS、WDS、Auger、EBSDなどの微細構造解析用途に利用することが可能です。
EM TIC 3X ミリングマシンでは、トリプルイオンビームにより前処理プロセスを大幅に高速化し、試料表面の微細な詳細と構造を明らかにできます。 ターゲット表面処理システム EM TXP とイオンビームミリングシステム EM TIC 3X を使用した IC 金ワイヤボンディングの前処理時間を短縮する方法について、ビデオでご紹介します。